Règlement sur les mesures économiques spéciales visant la Russie (DORS/2014-58)

a) tubes à impulsions;

b) cryostats;

c) vases de Dewar;

d) systèmes de traitement des gaz;

e) compresseurs;

f) unités de contrôle.

a) pompes à ultravide à sublimation, turbomoléculaires, à diffusion, cryogéniques ou ioniques à getter;

b) manomètres à ultravide.

a) équipement de fabrication additive pour la production de pièces de métal, comme suit :

(i) systèmes sur lit de poudre utilisant la fusion sélective au laser, le placage au laser, le frittage direct du métal par laser ou la fusion par faisceau d’électrons,

(ii) systèmes à alimentation en poudre utilisant le placage au laser, le dépôt par énergie directe ou le dépôt de métal par laser;

b) équipement de fabrication additive pour les matières énergétiques, notamment l’équipement utilisant l’extrusion ultrasonique;

c) équipement de fabrication additive par photopolymérisation en cuve utilisant la stéréolithographie ou le traitement direct de la lumière.

a) microscopes électroniques à balayage;

b) microscopes à balayage Auger;

c) microscopes électroniques à transmission;

d) microscopes à forces atomiques;

e) microscopes à balayage à forces atomiques;

f) équipements et détecteurs, spécialement conçus pour être utilisés avec les microscopes visés aux alinéas a) à e), employant l’une ou l’autre des techniques suivantes :

(i) spectroscopie photoélectronique par rayons X,

(ii) spectroscopie de rayons X à dispersion d’énergie,

(iii) système de diffraction des électrons rétrodiffusés,

(iv) spectroscopie d’électrons pour analyse chimique.

a) têtes de forage avec équipement de mesure intégré et systèmes de navigation inertielle pour la mesure pendant le forage (MWD);

b) systèmes de surveillance des gaz et détecteurs associés, conçus pour la détection du sulfure d'hydrogène;

c) équipements de mesures sismologiques, notamment la sismique réflexion et les vibrateurs sismiques;

d) sondeurs d'écho de sédiments.

a) matériaux pour le camouflage adaptatif;

b) métamatériaux, notamment avec un indice de réfraction négatif;

c) alliages à haute entropie (HEA);

d) composés de Heusler;

e) matériaux de Kitaev, notamment les liquides de spin de Kitaev.

a) picrate d'ammonium;

b) poudre noire;

c) hexanitrodiphénylamine;

d) difluoroamine;

e) nitrate d'amidon;

f) tétranitronaphtalène;

g) trinitroanisole;

h) trinitronaphtalène;

i) trinitroxylène;

j) N-pyrrolidinone; N-Méthyl-2-pyrrolidone;

k) dioctylmaléate;

l) Acrylate de 2-éthylhexyle;

m) triéthylaluminium (TEA), triméthylaluminium (TMA), et autres alkyles et aryles métalliques pyrophoriques de lithium, sodium, magnésium, zinc ou bore;

n) nitroglycérine (ou trinitrate de glycérol, trinitroglycérine) (NG);

o) dinitrate d'éthylènediamine (EDDN);

p) azide de plomb, styphnate de plomb normal et styphnate de plomb basique, et explosifs primaires ou compositions de détonation contenant des azides ou des complexes d'azides;

q) diéthyldiphénylurée; diméthyldiphénylurée; méthyléthyldiphénylurée;

r) 1,1-Diphénylurée;

s) méthyl-N,N-diphénylurée (diphénylurée non symétrique méthylée);

t) ethyl-N,N-diphénylurée (diphénylurée non symétrique éthylée);

u) 4-Nitro-N-phénylaniline;

v) 2,2-dinitropropanol.

a) lithium;

b) carbonate de lithium;

c) hydroxyde de lithium;

d) oxyde de lithium;

e) oxyde de cobalt de lithium;

f) phosphate de fer de lithium;

g) oxyde de manganèse de lithium;

h) oxyde de nickel, de manganèse, de cobalt et de lithium;

i) titanate de lithium.

a) formes primaires;

b) fils de filament ou monofilaments;

c) mèches de filament;

d) mèches;

e) fibres agrafées ou hachées;

f) tissus notamment les vêtements de protection fabriqués à partir de UHMWPE;

g) pulpes ou bourres.

a) équipement de traitement de film;

b) équipement de revêtement de masque de soudure;

c) équipement de traceur photo;

d) équipement de dépôt de placage ou d’électroplacage;

e) chambres à vide et presses;

f) lamineurs à rouleaux;

g) équipement d’alignement;

h) équipement de gravure.

a) espacement, surface, volume ou hauteur;

b) affichage en panneau;

c) composants (présence, absence, retourné, décalé, polarité ou inclinaison);

d) soudure (pontage ou joints de soudure insuffisants);

e) fils (pâte insuffisante ou levage);

f) alignement horizontal non voulu;

g) électrique (courts-circuits, ouvertures, résistance, capacité, puissance ou performance de la grille).

a) aluminium;

b) polytétrafluoroéthylène (PTFE);

c) matériaux céramiques (par exemple alumine, oxyde de titane, etc.).

a) chlorure ferrique;

b) chlorure cuivrique;

c) persulfate d'ammonium;

d) persulfate de sodium;

e) préparations chimiques spécialement conçues pour la gravure et contenant l’un des produits chimiques inclus dans cet article.

a) polyimides aromatiques;

b) parylènes;

c) benzocyclobutènes (BCBs);

d) polybenzoxazoles.

a) formes primaires;

b) fils de filament ou monofilaments;

c) mèches de filament;

d) mèches;

e) fibres agrafées ou hachées;

f) tissus, notamment les vêtements de protection fabriqués à partir de polyamide aromatique;

g) pulpes ou bourres.

a) nanomatériaux semi-conducteurs;

b) nanomatériaux composites;

a) nanotubes de carbone;

b) nanofibres de carbone;

c) fullerènes;

d) graphènes;

e) oignons de carbone.